• <menu id="ya0ue"></menu>
  • <dd id="ya0ue"></dd>
  • <menu id="ya0ue"></menu>
    文章詳情
    所在位置: 首頁> 技術文章> 其它>

    PECVD系統應用的說明

    日期:2022-05-14 07:13
    瀏覽次數:109
    摘要:
     PECVD主要是對半導體材料硅的濺射。

    PECVD系統應用:

        1. 廣泛應用于MEMS、先進封裝、功率半導體、LED制造、RF集成電路等領域

        2. 放射方式對稱工藝氣體顯著提高晶圓片內均勻性(WIW)

        3. 多達10路氣體管路,可選on-board液體輸送系統

        4. 復合頻率等離子體能力調節應力

        5. 有源冷卻平臺應用在關鍵,低溫[小于175°C]封裝工藝

        6. 可選敏感的de-gassing襯底材料增加單/多晶圓預加熱腔室

    尊敬的客戶:

      本公司還有快速退火爐、等離子清洗機、磁控濺射鍍膜儀等產品,您可以通過網頁撥打本公司的服務電話了解更多產品的詳細信息,至善至美的服務是我們的追求,歡迎新老客戶放心選購自己心儀產品,我們將竭誠為您服務!
     

    豫公網安備 41019702002438號

    欧美精品亚洲精品日韩久久
  • <menu id="ya0ue"></menu>
  • <dd id="ya0ue"></dd>
  • <menu id="ya0ue"></menu>