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    產品詳情
    • 產品名稱:PECVD鍍膜儀

    • 產品型號:CY-PECVD-450
    • 產品廠商:成越科儀
    • 產品文檔:
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    簡單介紹:
    CY-PECVD-450化學氣相沉積采用等離子體增強型化學氣相沉積技術,能夠利用高能量等離子體促進反應過程,有效提升反應速度,降低反應溫度。適用于在光學玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜,成膜質量好,針孔較少,不易龜裂,適用于制備非晶硅和微晶硅薄膜太陽電池器件,可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。
    詳情介紹:

    技術參數:

    產品型號

    CY-PECVD-450

    真空腔體

    前開門式,φ300mm X 300mm 不銹鋼材質

    觀察窗:φ100mm 帶擋板

    真空泵組

    前級泵:旋片泵 抽速1.1L/s

    次級泵:渦輪分子泵 抽速600L/s

    極限真空度

    10-6Pa

    三十分鐘內可達到 10-4Pa

    沉積真空

    0.133~133Pa,可根據工藝調整

    射頻電源

    13.56MHz,500W,自動匹配

    流量控制

    質量流量計,默認 Ar氣 0~200sccm

    整機尺寸

    1100mm x 800mm x1100mm

    豫公網安備 41019702002438號

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